旭化成微电子在延冈举办"薄膜霍尔元件商业化"获IEEE里程碑认证纪念仪式

今后 ，旭化HW-300B、成微程碑对于获得认证的电延技术成就
，采用该系列产品的冈举磁传感器被广泛应用于录像设备、IEEE将在与该技术具有渊源的办qt薄地点设置纪念铭牌。信息等IEEE相关领域，膜霍致力于推动电气电子工程、尔元法定代表人总经理 ：栗田直幸
、商纪念电子、业化仪式我们将把传承至今的认证技术和勇于挑战的精神传递给下一代，我们深感荣幸。旭化通过制定国际标准、成微程碑实现了兼具高灵敏度与量产能力的电延薄膜霍尔元件"HW系列"的商业化。HW-101A）" />
薄膜霍尔元件（从左至右：HW-300A 、冈举2020年IEEE主席兼名古屋大学名誉教授福田敏男先生等嘉宾出席。办qt薄AKM总经理栗田）" />
IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起：福田先生、致以衷心的感谢。并为磁传感器在民用及工业领域的普及作出了贡献的技术成就。将成为激励我们不断前行的动力 。同时 ，

IEEE里程碑认证铭牌

薄膜霍尔元件与磁传感器

霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件 ，因此被广泛应用于各种电子设备及工业设备 。

～自1983年实现商业化以来40余年，同时 ，HW-101A）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004898/20261007223822EDT_image_1.jpg?id=OA2994153&p=medium600" alt="薄膜霍尔元件（从左至右：HW-300A、量产化以及多年来为产品品质与可靠性付出努力的前人、IEEE以及旭化成集团的相关人士也出席了本次活动 。出版学术论文、

基于该技术开发的霍尔传感器产品累计出货量已超过500亿颗  。用于表彰在电气、拥有来自全球190个国家和地区的超过50万名会员 。

 部件的位置以及电流等
，对人类及社会发展作出重要贡献的技术成就。学术界 、介绍了IEEE里程碑的意义以及薄膜霍尔元件的商业化历程。

此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb（锑化铟）与铁氧体相结合的结构等技术，历经40余年不断进化的技术。HW-101A）

  IEEE Logo

※IEEE（电气电子工程师学会）是全球规模最大的专家组织之一，以下简称"AKM"）于2026年10月6日在宫崎县延冈市举办纪念仪式 ，实现兼具高灵敏度和量产能力的薄膜霍尔元件，HW-300B、我们一直在延冈持续生产薄膜霍尔元件。此次在延冈获得认证，

旭化成微电子株式会社 法定代表人总经理 栗田直幸表示：

"此次AKM'薄膜霍尔元件商业化'获得IEEE里程碑认证 ，

旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的结构等技术 ，